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TTV,Bow,Warp對半導體制程的影響

作者:超級管理員    來源:本站    發(fā)布時間:2023-09-13 17:58:00    瀏覽量:522


首先,這三個參數(shù)越小越好,TTV,Bow,Warp越大對于半導體制程的負面影響越大,因此如果三者的值超過標準,硅片就要報廢。

對光刻過程的影響:

焦深問題: 在光刻過程中,可能會導致焦點深度的變化,從而影響圖案的清晰度。

對準問題: 可能會導致晶圓在對準過程中的偏移,進一步影響層與層之間的對準精度。




對化學機械拋光的影響:

拋光不均勻: 可能會導致CMP過程中的不均勻拋光,從而造成表面粗糙和殘留應力。

對薄膜沉積的影響:

沉積不均勻: 凸凹的晶圓在沉積過程中可能會導致沉積薄膜厚度的不均勻。

對晶圓裝載的影響:

裝載問題: 凸凹的晶圓可能在自動裝載過程中導致晶圓損壞。

最后,作為半導體從業(yè)者,我們必須認識到晶圓的面型參數(shù)對于整個制程流程的重要性,做半導體工藝,要注意細節(jié)。


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